大型常壓CVD系統(tǒng)，適用于6英寸以下的小直徑晶圓
空客A6300S
6 英寸吞吐量，每小時(shí) 120 張
使用SiC托盤(pán)防止重金屬污染的對(duì)策
日本AMAYA天谷制作所 6英寸小直徑晶圓 半導(dǎo)體A6300S
特征
針對(duì)小直徑晶圓量產(chǎn)設(shè)備的需求，該連續(xù)常壓CVD系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)了每小時(shí)120片晶圓的吞吐量。
該裝置既能實(shí)現(xiàn)大規(guī)模生產(chǎn)，又能降低成本，同時(shí)還使用了為實(shí)現(xiàn)大范圍的薄膜沉積區(qū)域而開(kāi)發(fā)的分散頭和限制托盤(pán)數(shù)量的運(yùn)輸系統(tǒng)。
碳化硅托盤(pán)的使用使重金屬污染難以發(fā)生。 此外，由于受熱引起的老化很少，可以獲得穩(wěn)定的工藝性能。
標(biāo)配自動(dòng)托盤(pán)更換功能，確保工人**，減少維護(hù)時(shí)間。 此外，自動(dòng)升高頭底座的機(jī)制使其易于清潔。
性能
| 涂層厚度均勻性 | ≦±4.0% |
|---|---|
| 支持的晶圓尺寸 | ≦6寸 |
| 氣體種類(lèi) | SiH4， O 2， PH3， B 2 H6， N 2 |
| 沉積溫度 | 350°C~450°C |
| 生產(chǎn)力 | 120 ppm。 |
主要技術(shù)指標(biāo)
| 設(shè)備尺寸 | 1500mm（寬） x 2850mm（深） x 2000mm（高） |
|---|---|
| 加熱機(jī)制 | 電阻加熱 |
| 裝卸 | 機(jī)器人 CtoC 傳輸 |
| 分散頭（氣體噴嘴） | A63 頭（標(biāo)配 2 頭） |
