半導(dǎo)體去離子水設(shè)備
重要性：半導(dǎo)體制造過程中，對水中的顆粒物、雜質(zhì)、離子等有**的要求，去離子水可保證芯片質(zhì)量和性能，減少芯片制造過程中的瑕疵和缺陷
工藝流程 ：
預(yù)處理：通常包括砂濾、活性炭過濾、軟化等步驟，去除水中的大顆粒雜質(zhì)、有機(jī)物和硬度離子，防止對后續(xù)反滲透膜造成堵塞或損壞。
一級反滲透：經(jīng)過預(yù)處理的水進(jìn)入一級反滲透裝置，在壓力作用下，水通過反滲透膜，鹽分、有機(jī)物等雜質(zhì)被截留，產(chǎn)水電阻率一般在 0.05-0.5mΩ.cm，可滿足一些對水質(zhì)要求相對較低的半導(dǎo)體生產(chǎn)環(huán)節(jié)需求。
二級反滲透：一級反滲透的產(chǎn)水再經(jīng)過二級反滲透進(jìn)一步提純，能更有效地去除水中的殘留雜質(zhì)，使產(chǎn)水水質(zhì)更高，電阻率可達(dá)到更高水平，更接近半導(dǎo)體生產(chǎn)所需的超純水標(biāo)準(zhǔn)。
后續(xù)處理：為了達(dá)到半導(dǎo)體行業(yè)對超純水的嚴(yán)格要求，二級反滲透后的水還可能經(jīng)過 EDI 裝置、離子交換樹脂、超濾、紫外燈殺菌等后續(xù)處理步驟，進(jìn)一步去除水中的微量離子、有機(jī)物和微生物等。
設(shè)備特點(diǎn) ：
出水水質(zhì)穩(wěn)定：能連續(xù)生產(chǎn)出符合用戶要求的超純水，水質(zhì)具有穩(wěn)定性，不受原水水質(zhì)波動影響。
無需酸堿再生：如采用 EDI 技術(shù)，無需使用酸和堿對離子交換樹脂再生，無污水排放，減少了化學(xué)藥劑的使用和廢水處理成本。
自動化程度高：可實(shí)現(xiàn)全自動控制，易于操作和維護(hù)，減少人工干預(yù)，提高生產(chǎn)效率。
運(yùn)行成本低：相比傳統(tǒng)的離子交換等方法，運(yùn)行費(fèi)用較低，且設(shè)備結(jié)構(gòu)緊湊，占地面積小 。
