研磨拋光劑是不同于固結(jié)磨具，涂附磨具的另一類“磨具”，磨料在分散劑中均勻、游離分布。研磨拋光劑可分為研磨劑和拋光液。一般研磨劑用于粗磨，拋光液用于精密磨削。拋光液通常用于研磨劑的下道工序，行業(yè)中也把拋光液稱為研磨劑或把研磨劑稱為拋光液的。

　　研磨劑按其作用機(jī)理分：機(jī)械作用研磨劑，化學(xué)機(jī)械作用研磨劑。

　　機(jī)械作用的研磨劑：以金剛石、B4C等為磨料，通過添加分散劑等方式分散到液體介質(zhì)中，從而形成具有磨削作用的液體，稱為金剛石研磨劑、碳化硼研磨劑等。磨料在分散液中游離分布，利用磨料硬度比待磨工件硬度大的原理，實(shí)現(xiàn)工件的研磨、減薄。根據(jù)磨料的表面、顆粒大小及研磨劑配置、研磨設(shè)備穩(wěn)定性等情況，研磨完成后，工件表面容易留下或大或小的劃痕。所以，機(jī)械作用的研磨劑一般用于粗磨，后續(xù)還需要精密研磨拋光。

　　化學(xué)機(jī)械作用研磨劑：化學(xué)機(jī)械作用研磨劑利用了磨損中的“軟磨硬”原理，即用較軟的材料來進(jìn)行拋光以實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量的拋光表面，是機(jī)械削磨和化學(xué)腐蝕的組合技術(shù)，它借助超微粒子的研磨作用和化學(xué)腐蝕作用在被研磨的介質(zhì)表面形成光潔平坦表面。所以化學(xué)機(jī)械作用研磨劑又稱為化學(xué)機(jī)械拋光液(Chemical Mechanical Polishing,簡(jiǎn)稱CMP)。在一定壓力及拋光漿料存在下，被拋光工件相對(duì)于拋光墊作相對(duì)運(yùn)動(dòng)，借助于納米粒子的研磨作用與氧化劑的腐蝕作用之間的有機(jī)結(jié)合，在被研磨的工件表面形成光潔表面