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北京慧龍環(huán)科環(huán)境儀器有限公司

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三靶磁控濺射儀

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產(chǎn)品型號(hào)VTC-600-3HD

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更新時(shí)間：2024-10-24 09:35:11瀏覽次數(shù)：93次

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

三靶磁控濺射儀更新時(shí)間：2020-01-08產(chǎn)品型號(hào)：VTC-600-3HD廠商性質(zhì)：代理商產(chǎn)品品牌：合肥科晶產(chǎn)品廠地：國(guó)外訪問(wèn)次數(shù)：346VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀是新研制開(kāi)發(fā)的鍍膜設(shè)備

詳細(xì)介紹

三靶磁控濺射儀

更新時(shí)間：2020-01-08
產(chǎn)品型號(hào)：VTC-600-3HD
廠商性質(zhì)：代理商
產(chǎn)品品牌：合肥科晶
產(chǎn)品廠地：國(guó)外
訪問(wèn)次數(shù)：346

VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀是新研制開(kāi)發(fā)的鍍膜設(shè)備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。

VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀

產(chǎn)品概述：

VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀是新研制開(kāi)發(fā)的鍍膜設(shè)備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。與同類(lèi)設(shè)備相比，其不僅應(yīng)用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn)，是一款實(shí)驗(yàn)室制備材料薄膜的理想設(shè)備，特別適用于實(shí)驗(yàn)室研究固態(tài)電解質(zhì)及OLED等。

主要特點(diǎn)：

可制備多種薄膜，應(yīng)用廣泛
體積小，操作簡(jiǎn)便
真空腔室、真空泵組整機(jī)模塊化設(shè)計(jì) ，控制電源為分體式設(shè)計(jì)，可根據(jù)用戶實(shí)際需要調(diào)整購(gòu)買(mǎi)需求。
可根據(jù)用戶實(shí)際需要選擇電源，可以一個(gè)電源控制多個(gè)靶槍?zhuān)部啥鄠€(gè)電源單一控制靶槍

磁控濺射頭：

儀器中安裝有3個(gè)磁控濺射頭，而且都帶有水冷夾層
其中一個(gè)濺射頭與射頻電源相連接，主要是濺射絕緣性靶材
另一個(gè)濺射頭與直流電源相連接，主要濺射導(dǎo)電性靶材
靶材尺寸要求：直徑為50mm,厚度0.1-5mm（因靶材材質(zhì)不同厚度有所不同）
可以單獨(dú)訂購(gòu)RF連接線作為備用
設(shè)備包含一臺(tái)水冷機(jī)，用于靶頭冷卻

載樣臺(tái)：

載樣臺(tái)尺寸：φ140mm（大可放置4"的基底）
載樣臺(tái)可以旋轉(zhuǎn)，其速度為：1 - 20 rpm （可調(diào)）
載樣臺(tái)高可加熱溫度為500℃

真空腔體：

真空腔體：φ300 mm×300 mm H，采用不銹鋼制作
觀察窗口：Φ100 mm
腔體打開(kāi)方式采用上頂開(kāi)，使得換靶更加容易

氣體流量控制器：

儀器內(nèi)部安裝有2個(gè)質(zhì)量流量計(jì)，量程為：0-100sccm
氣體流量設(shè)置可以在6英寸的觸摸屏上進(jìn)行操作
此系統(tǒng)運(yùn)行需要Ar氣，并且氣瓶上安裝有減壓閥（設(shè)備中不包含）

真空系統(tǒng)：

配有一套GZK-103D分子泵系統(tǒng)（德國(guó)制作）
標(biāo)準(zhǔn)5E-5mbar 極限7.4E-6mbar

薄膜測(cè)厚：

一個(gè)精密的石英振動(dòng)薄膜測(cè)厚儀安裝在儀器上，可實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)薄膜的厚度，分辨率為0.10 Å
LED顯示屏顯示，同時(shí)也輸入所制作薄膜的相關(guān)數(shù)據(jù)

產(chǎn)品外形尺寸：

L1300mm×W660mm H1200mm
凈重：160 kg

質(zhì)量認(rèn)證：CE認(rèn)證

使用提示：

此設(shè)備為DIY設(shè)備，參數(shù)變化較大購(gòu)買(mǎi)前請(qǐng)務(wù)必電話仔細(xì)溝通
為了得到較好的薄膜質(zhì)量，必須通入高純氣體（建議> 5N）
在濺射鍍膜前，確保濺射頭、靶材、基片和樣品臺(tái)的潔凈
要達(dá)到薄膜與基底良好結(jié)合，請(qǐng)?jiān)跒R射前清潔基材表面
超聲波清洗（詳細(xì)參數(shù)點(diǎn)擊下面圖片）：（1）丙酮超聲（2）異丙醇超聲-去除油脂（3）吹氮?dú)飧稍?（4）真空烘箱除去水分。
等離子清洗：可表面粗糙化，可激活表面化學(xué)鍵，可祛除額外的污染物。
制造一個(gè)薄的緩沖層（5納米左右）：如Gr，Ti，Mo，Ta，可以應(yīng)用于改善金屬和合金的附著力。

警示：

注意：產(chǎn)品內(nèi)部安裝有高壓元件，禁止私自拆裝，帶電移動(dòng)機(jī)體
氣瓶上應(yīng)安裝減壓閥（設(shè)備標(biāo)配不包括），保證氣體的輸出壓力限制在0.02兆帕以下，以安全使用
濺射頭連接到高電壓。為了安全，操作者必須在關(guān)閉設(shè)備前裝樣和更換靶

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