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影響膜厚測(cè)試儀性能的因素

閱讀:1發(fā)布時(shí)間:2025-7-5

        膜厚測(cè)試儀是常見的一種設(shè)備鍍層檢測(cè)工具,采用磁性測(cè)厚法,可以方便無損地測(cè)量鐵磁材料上非磁性鍍層的厚度,因此膜厚測(cè)試儀受到很多廠商的追捧。但是影響膜厚測(cè)試儀的因素很多人無從得知,進(jìn)而本文將進(jìn)行具體介紹影響膜厚測(cè)試儀性能的因素:


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iEDX-150WT膜厚測(cè)試儀





        一、基體金屬磁化


        因?yàn)槟ず駵y(cè)試儀磁性法測(cè)量受基體金屬磁性變化的影響(在實(shí)際應(yīng)用中,低碳鋼磁性的變化可以認(rèn)為是輕微的)。為了避免熱處理、冷加工等因素的影響,應(yīng)使用與鍍件金屬具有相同性質(zhì)的鐵基片上對(duì)儀器進(jìn)行校對(duì)。并且每一種膜厚測(cè)試儀都有一個(gè)基體金屬的臨界厚度,大于這個(gè)厚度測(cè)量就不受基體厚度的影響。


        二、邊緣效應(yīng)


        由于膜厚測(cè)試儀對(duì)試片表面形狀的陡變敏感,因此在靠近試片邊緣或內(nèi)轉(zhuǎn)角處進(jìn)行測(cè)量不可靠。所以膜厚測(cè)試儀的曲率對(duì)測(cè)量有影響,這種影響是隨著曲率半徑減小明顯增大。因此不應(yīng)在試件超過允許的曲率半徑的彎曲面上測(cè)量。


        三、表面粗糙度


        基體金屬和表面粗糙度對(duì)膜厚測(cè)試儀測(cè)量有影響。粗糙表面會(huì)引起系統(tǒng)誤差和偶然誤差。每次測(cè)量時(shí),在不同位置上增加測(cè)量的次數(shù),克服這種偶然誤差。如果基體金屬粗糙還必須在未涂覆的粗糙相類似的基體金屬試件上取幾個(gè)位置校對(duì)儀器的零點(diǎn);或用沒有腐蝕性的溶液除去在基體金屬上的覆蓋層,再校對(duì)儀器零點(diǎn)。


        四、磁場(chǎng)


        周圍各種電氣設(shè)備所產(chǎn)生的強(qiáng)磁場(chǎng),會(huì)干擾膜厚測(cè)試儀測(cè)量厚度的工作。并且膜厚測(cè)試儀對(duì)那些妨礙探頭與覆蓋層表面緊密接觸的附著物質(zhì)敏感。因此必須清除附著物質(zhì),以保證探頭與覆蓋層表面直接接觸。值得注意的是在測(cè)量中使探頭與試樣表面保持垂直。


        以上幾個(gè)因素都會(huì)影響膜厚測(cè)試儀的性能,用戶需要格外注意。另外,深受廠商喜愛的膜厚測(cè)試儀采用單片機(jī)技術(shù),精度高、數(shù)字顯示、示值穩(wěn)定、功耗低、操作簡單方便、觸摸按鍵、單探頭全量程測(cè)量、體積小、重量輕,且具有存儲(chǔ)、讀出、統(tǒng)計(jì)和低電壓指示準(zhǔn)等特點(diǎn)。



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