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行業(yè)產(chǎn)品

  • 行業(yè)產(chǎn)品

深圳市科晶智達科技有限公司



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經(jīng)營模式:其他

商鋪產(chǎn)品:405條

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聯(lián)系人:廖勝眉

  • 提拉涂膜機

    詳細摘要: 簡要描述:PTL-MM01提拉涂膜機通過垂直提拉在液相中的樣件而生長薄膜。本機采用單板機控制,運行平穩(wěn)準確,是大專院校、研究院所實驗室的理想設(shè)備。

    產(chǎn)品型號:PTL-MM01所在地:更新時間:2023-01-19 在線留言

  • MSK-AFA-II-VC 550mm流延涂覆機

    詳細摘要: 簡要描述:MSK-AFA-II-VC是一款通過CE認證的自動涂覆機,用千分尺調(diào)節(jié)以達到所要涂覆的薄膜厚度。儀器采用真空吸附來固定襯底,使得涂敷過程中襯底不會起褶...

    產(chǎn)品型號:所在地:更新時間:2023-01-12 在線留言

  • MSK-AFA-L800 800mm流延涂覆機

    詳細摘要: 簡要描述:MSK-AFA-L800是一款800mm長的流延式涂覆機,含真空吸盤和無油真空泵,配合微米級可調(diào)式刮刀可制作長的厚膜。具有的自動推進裝置,可以在180...

    產(chǎn)品型號:所在地:更新時間:2023-01-12 在線留言

  • MSK-DCP-S650 平板涂覆機

    詳細摘要: 簡要描述:MSK-DCP-S650平板涂覆機是一款狹縫擠出式流延平板涂覆設(shè)備,可應(yīng)用于對各種片狀基材進行表面涂布工藝。該設(shè)備本著方便研究者使用,同時滿足涂布精度...

    產(chǎn)品型號:所在地:更新時間:2023-01-12 在線留言

  • GSL-1700X-SPC-2 小型程序控溫蒸發(fā)鍍膜儀

    詳細摘要: 簡要描述:GSL-1700X-SPC-2是一款小型臺式程序控溫蒸發(fā)鍍膜儀,可以設(shè)定程序,精確控制溫度200#186;C~1500#186;C(或者1200#18...

    產(chǎn)品型號:所在地:更新時間:2023-01-12 在線留言

  • VTC-16-3HD 3靶等離子濺射儀

    詳細摘要: 簡要描述:VTC-16-3HD是一款緊湊型CE認證的等離子薄膜濺射儀(直流普通型),基片大尺寸2英寸,加熱溫度為500度和控制面板為觸摸屏模式。它可以濺射三種類...

    產(chǎn)品型號:所在地:更新時間:2023-01-12 在線留言

  • VTC-2RF 300W射頻等離子磁控濺射鍍膜儀

    詳細摘要: 簡要描述:VTC-2RF是一款小型的射頻(RF)等離子體磁控濺射鍍膜儀系統(tǒng),系統(tǒng)中包含了所有所需的配件,如300W(13.5MHz)的RF電源、2“的磁控濺射頭...

    產(chǎn)品型號:所在地:更新時間:2023-01-12 在線留言

  • MSK-AFA-SD400 狹縫擠出式涂布機

    詳細摘要: 簡要描述:MSK-AFA-SD400狹縫擠出式涂布機是一款應(yīng)用狹縫擠出式涂布模頭對基材進行非接觸式涂布的一款設(shè)備。該設(shè)備通過配置slot die狹縫擠壓涂布模頭...

    產(chǎn)品型號:所在地:更新時間:2023-01-12 在線留言

  • VTC-1RF-1 英寸小型磁控射頻濺射鍍膜儀

    詳細摘要: 簡要描述:VTC-1RF是一款小型臺式單靶等離子濺射儀(射頻磁控型),配有1英寸的磁控等離子濺射頭和射頻(RF)等離子電源,此款設(shè)備主要用于制作非導電薄膜,特別...

    產(chǎn)品型號:所在地:更新時間:2023-01-12 在線留言

  • GSL-1700X-EV4 程序控溫型四坩堝蒸發(fā)鍍膜儀

    詳細摘要: 簡要描述:GSL-1700X-EV4是一款小型溫控型蒸發(fā)鍍膜儀,內(nèi)部設(shè)有4個蒸發(fā)坩堝,且每個蒸發(fā)坩堝都帶有擋板,多可放置4種不同的蒸發(fā)物料,可在同一氣氛下依次鍍...

    產(chǎn)品型號:所在地:更新時間:2023-01-12 在線留言

  • OTF-1200X-RTP-II 近距離蒸發(fā)鍍膜(CSS)爐

    詳細摘要: 簡要描述:OTF-1200X-RTP-II是一款快速蒸發(fā)管式爐,專門針對于用PVD或CSS法來制作薄膜。此款管式爐爐管直徑為11“ OD,爐管內(nèi)載樣盤可放置3“...

    產(chǎn)品型號:所在地:更新時間:2023-01-12 在線留言

  • GSL-1100X-SPC-16M 磁控濺射鍍膜儀

    詳細摘要: 簡要描述:GSL-1100X-SPC-16M磁控濺射鍍膜儀是依據(jù)二極(DC)直流濺射原理設(shè)計而成的較簡單、可靠、經(jīng)濟的鍍膜設(shè)備,適用于實驗室各種復(fù)合膜樣品的制備...

    產(chǎn)品型號:所在地:更新時間:2023-01-12 在線留言

  • GSL-1100X-SPC-16-3 等離子三靶濺射儀

    詳細摘要: 簡要描述:GSL-1100X-SPC-16-3等離子三靶濺射儀是依據(jù)二極(DC)直流濺射原理設(shè)計而成的較簡單、可靠、經(jīng)濟的鍍膜設(shè)備。本機特別之處是在一個真空室內(nèi)...

    產(chǎn)品型號:所在地:更新時間:2023-01-11 在線留言

  • OTF-1200X-RTP-II-5-R 5英寸旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)鍍膜爐

    詳細摘要: 簡要描述:OTF-1200X-RTP-II-5-R是一款5英寸近距離旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)鍍膜爐,其爐腔體是一直徑為11英寸的石英管。此款設(shè)備專門設(shè)計針對于熱蒸發(fā)或CSS(C...

    產(chǎn)品型號:所在地:更新時間:2023-01-11 在線留言

  • VTC-600-2HD 雙靶磁控濺射儀

    詳細摘要: 簡要描述:VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀是研制開發(fā)的鍍膜設(shè)備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學薄膜、...

    產(chǎn)品型號:所在地:更新時間:2023-01-11 在線留言

  • 鈣鈦礦鍍膜機

    詳細摘要: 簡要描述:鈣鈦礦鍍膜機主要由有機/金屬源蒸發(fā)沉積室、真空排氣系統(tǒng)、真空測量系統(tǒng)、蒸發(fā)源、樣品加熱控溫、電控系統(tǒng)、配氣系統(tǒng)等部分組成。適用于制備金屬單質(zhì)薄膜、半導...

    產(chǎn)品型號:所在地:更新時間:2023-01-11 在線留言

  • GSL-1800X-ZF4 蒸發(fā)鍍膜儀

    詳細摘要: 簡要描述:GSL-1800X-ZF4蒸發(fā)鍍膜儀是一款高真空的蒸發(fā)鍍膜儀,特別適合蒸鍍對氧較敏感的金屬膜(如Ti、Al、Au等),也可蒸鍍各種氧化物材料。本機設(shè)有...

    產(chǎn)品型號:所在地:更新時間:2023-01-11 在線留言

  • GSL-1800X-ZF2 蒸發(fā)鍍膜儀

    詳細摘要: 簡要描述:GSL-1800X-ZF2蒸發(fā)鍍膜儀主要應(yīng)用于大專院校、科研機構(gòu)、企業(yè)實驗室及微小產(chǎn)品進行真空鍍膜等真空處理的工藝研究、樣板試制、操作培訓和生產(chǎn)

    產(chǎn)品型號:所在地:更新時間:2023-01-11 在線留言

  • MSK-ESC-R2R卷對卷靜電紡絲系統(tǒng)

    詳細摘要: 簡要描述:產(chǎn)品簡介:MSK-ESC-R2R卷對卷靜電紡絲系統(tǒng)是一款桌面型靜電紡絲涂布系統(tǒng),配有自動卷對卷放料和收料系統(tǒng)。注射泵連續(xù)精確的輸送漿料,以達到均勻紡絲...

    產(chǎn)品型號:所在地:更新時間:2023-01-10 在線留言

  • 氧化鋯球磨珠

    詳細摘要: 簡要描述:氧化鋯研磨珠 主要應(yīng)用于要求及高粘度、高硬度物料的超細研磨及分散,如電子陶瓷、磁性材料、氧化鋁、氧化硅、硅酸鋯、鈦白粉、醫(yī)藥食品、顏料、燃料、油墨、特...

    產(chǎn)品型號:所在地:更新時間:2023-01-10 在線留言

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