SB-402曝光機（雙面光刻機）

藍星宇科技專業(yè)研發(fā)設計組裝：紫外臭氧清洗機（UV清洗機），準分子清洗機，等離子清洗機等儀器設備。引進日本，德國，韓國*技術，設備已獲得眾多院校，研究所，高科技企業(yè)等客戶*認可。 

  同時我們專注進口科學儀器設備及材料，主要代理有：德國Nanoscribe 雙光子微納 3D 打印機（雙光子飛秒激光直寫儀），德國 SUSS 蘇斯光刻機，德國 Heidelberg 海德堡光刻機，美國 OAI 光刻機，德國 Raith 電子束光刻機，英國 Durtham 無掩膜光刻機，美國 Trion 刻蝕機.沉積機，德國 Sentech 刻蝕機.沉積機，德國 Optosol 吸收率發(fā)射率檢測儀，日本 SEN  UV清洗機.UV清洗燈，美國Jelight UV清洗機，美國 Nano-master 晶圓清洗機，美國 Arradiance 原子層沉積機，德國 WL 微波離子沉積機，德國 Iplas 微波離子沉積機，美國量子科學 Quantum 綜合物性測量系統(tǒng)，德國 Diener 等離子清洗機等*技術產品；并可依據客戶需求，研發(fā)定制相關儀器及材料。我們以具競爭力的價格為客戶提供優(yōu)質的產品與服務，為中國半導體/電子/光電/生物//高科技企業(yè)/高校學院/研究所/檢測分析等客戶提供設備儀器及材料。

產品參數

對準工作臺指標:

 X向行程：±4mm

 Y向行程：±4mm

 旋轉角θ向：±5°

 基片尺寸：Maxφ4″

 掩模尺寸：Max5″×5″

 雙面對準精度：±0.003mm

□機械手構指標；

 機械手對下掩模分離間隙：0～100μm（當量1μm）

□曝光系統(tǒng)指標；

 光源：250W超高壓汞燈

 波長：UV365

 大曝光面積；φ110mm

 曝光不均勻性：±3%

 曝光分辨率：3μm（正膠）

 汞燈冷卻： 風冷

 曝光時間：0～999s 檔量1s

□分離視場顯微鏡指標：

 總倍率： 65X

 視場：φ3.3mm

 物鏡分離距離：26～70mm

□所需設施：

 輸入電壓：～220V±22V（50HZ）

 整機功率：1.5KW

 室內光線: 紅色、黃色

 氮氣（N2）:0.2～0.4MPa

 壓縮空氣:0.5～0.7MPa

 真 空 :－0.08～－0.1mPa

□體積及重量：

 重量： 480㎏

 外形尺寸:950㎜×850㎜×1500㎜

SB-402曝光機（雙面光刻機）