Jelight 18/ 24/30 UVO3清洗機(jī)紫外線臭氧清洗方法,是使用短波的紫外線照射, 使其光敏氧化的過(guò)程. 通過(guò)將樣品正確放置在距離臭氧紫外線光源5MM, 在不到1分鐘內(nèi)可以實(shí)現(xiàn)自動(dòng)清洗表面.

藍(lán)星宇科技專業(yè)研發(fā)設(shè)計(jì)組裝：紫外臭氧清洗機(jī)（UV清洗機(jī)），準(zhǔn)分子清洗機(jī)，等離子清洗機(jī)等儀器設(shè)備。引進(jìn)日本，德國(guó)，韓國(guó)*技術(shù)，設(shè)備已獲得眾多院校，研究所，高科技企業(yè)等客戶*認(rèn)可。 

  同時(shí)我們專注進(jìn)口科學(xué)儀器設(shè)備及材料，主要代理有：德國(guó)Nanoscribe 雙光子微納 3D 打印機(jī)（雙光子飛秒激光直寫(xiě)儀），德國(guó) SUSS 蘇斯光刻機(jī)，德國(guó) Heidelberg 海德堡光刻機(jī)，美國(guó) OAI 光刻機(jī)，德國(guó) Raith 電子束光刻機(jī)，英國(guó) Durtham 無(wú)掩膜光刻機(jī)，美國(guó) Trion 刻蝕機(jī).沉積機(jī)，德國(guó) Sentech 刻蝕機(jī).沉積機(jī)，德國(guó) Optosol 吸收率發(fā)射率檢測(cè)儀，日本 SEN  UV清洗機(jī).UV清洗燈，美國(guó)Jelight UV清洗機(jī)，美國(guó) Nano-master 晶圓清洗機(jī)，美國(guó) Arradiance 原子層沉積機(jī)，德國(guó) WL 微波離子沉積機(jī)，德國(guó) Iplas 微波離子沉積機(jī)，美國(guó)量子科學(xué) Quantum 綜合物性測(cè)量系統(tǒng)，德國(guó) Diener 等離子清洗機(jī)等*技術(shù)產(chǎn)品；并可依據(jù)客戶需求，研發(fā)定制相關(guān)儀器及材料。我們以具競(jìng)爭(zhēng)力的價(jià)格為客戶提供優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品與服務(wù)，為中國(guó)半導(dǎo)體/電子/光電/生物//高科技企業(yè)/高校學(xué)院/研究所/檢測(cè)分析等客戶提供設(shè)備儀器及材料。

三種型號(hào):

Jelight 18:
 
           托盤尺寸: 3.50 x 7.00 inches
                           88 x 177mm


Jelight 24:

           托盤尺寸: 4.25 x 7.00 inches
                          107 x 177mm

Jelight 30:

           托盤尺寸: 5.0 x 7.0 inches
                          127 x 177mm

應(yīng)用程序:
•UV固化•表面模式
•臭氧腐蝕•顯微鏡幻燈片
•清潔鏡片和光學(xué)
•為薄膜沉積準(zhǔn)備
•AFM探針清潔/使*削尖
•改善表面潤(rùn)濕性能
 

Jelight 18/ 24/30 UVO3清洗機(jī)