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UV+活性炭吸附一體機 uv光解活性炭除臭設(shè)備
閱讀：268 發(fā)布時間：2024-2-27UV光解活性炭一體機環(huán)保設(shè)備可以作為酸霧凈化塔、低溫等離子體廢氣凈化設(shè)備、高能離子凈化器的末端配套設(shè)備，也可以作為中低濃度廢氣的直接處理設(shè)備
UV光解活性炭吸附一體機適用場所： 除臭設(shè)備廣泛應(yīng)用于噴漆廠除臭、橡膠廠除臭、塑料廠、油漆廠除臭、噴涂車間除臭、電子廠除臭、造紙廠除臭、電路板廠、包裝廠除臭、樹脂廠除臭、油墨廠除臭、醫(yī)藥廠除臭、飼料廠除臭、涂裝廠除臭、紡織服裝廠除臭、養(yǎng)殖屠宰廠除臭、污水泵站除臭、垃圾處理站除臭、污泥干化站除臭、防水材料廠除臭、瀝青廠除臭、電鍍廠除臭、化肥廠除臭、家具廠除臭、皮革廠除臭、煙草除臭、化工廠除臭、冷凍廠除臭、食品廠除臭、造紙廠除臭、印刷廠除臭、飼料廠除臭、香精廠除臭、污水處理廠除臭、VOC有機廢氣處理除臭、養(yǎng)龜房除臭除臭、4s店噴漆廢氣除臭、酒店除臭、商場除臭、醫(yī)院除臭、糞便處理、合成纖維、合成樹酯、工業(yè)污水、生活污水處理等行業(yè)的廢氣處理、臭氣處理、尾氣處理、異味凈化、空氣凈化、消毒殺菌等。
UV光催化氧化階段
工作原理：
本產(chǎn)品利用高能高臭氧UV紫外線光束分解空氣中的氧分子產(chǎn)生游離氧，即活性氧，因游離氧所攜正負電子不平衡所以需與氧分子結(jié)合，進而生成臭氧；
UV＋O2→O-+O＊(活性氧)O+O2→O3(臭氧)，臭氧與呈游離狀態(tài)污染物質(zhì)原子聚合，生成新的、無害或低害物質(zhì)，如CO2、H2O等。同時在污染體系中投加一定量的光敏半導(dǎo)體材料，結(jié)合一定量的光輻射，使光敏半導(dǎo)體在光的照射下激發(fā)產(chǎn)生電子-空穴對，吸附在半導(dǎo)體上的溶解氧、水分子等與電子-空穴作用，產(chǎn)生·HO等氧化性強的自由基，再通過與污染物之間的羥基加和、取代、電子轉(zhuǎn)移等式污染物全部或接近全部氧化。
作用過程：
刺激性氣味氣體利用排風(fēng)設(shè)備輸入到UV光解凈化設(shè)備后，凈化設(shè)備運用高能UV紫外線光束及臭氧對惡臭氣體進行協(xié)同裂解、氧化反應(yīng)，使惡臭氣體物質(zhì)其降解轉(zhuǎn)化成低分子化合物、水和二氧化碳，再通過排風(fēng)管道排出室外。
產(chǎn)品特點：
本產(chǎn)品利用特制的高能高臭氧UV紫外線光束照射惡臭氣體物質(zhì)分子鍵，裂解刺激性臭味氣體物質(zhì)如：氨、三甲胺、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯，硫化物H2S、VOC類，苯、甲苯、二甲苯的分子鍵，在半導(dǎo)體催化劑的作用下，使呈游離狀態(tài)的污染物原子與臭氧氧化聚合成小分子無害或低害物質(zhì)，如CO2、H2O等。利用高能UV光束裂解惡臭氣體中細菌的分子鍵，破壞細菌的核酸(DNA)，再通過臭氧，在半導(dǎo)體催化劑的作用下，進行催化氧化反應(yīng)，達到脫臭及殺滅細菌的目的。
UV+活性炭一體機
活性炭吸附階段
活性炭吸附裝置處理有機廢氣的原理是在一定的溫度和壓力下，當活性炭與有機廢氣接觸時，有機廢氣吸附于活性炭的細孔中。氣、固相開始接觸時，對有機廢氣中的甲苯、二甲苯、苯乙烯及丙酮等有機物的吸附是主要過程，在活性炭的眾多微孔中分為大中小三種孔，只有微小孔是吸附的主力軍，活性炭具有微晶結(jié)構(gòu)，微晶排列不規(guī)則，晶體中有微孔（半徑小于20〔?！常?0-10米）、過渡孔（半徑20～1000）、大孔（半徑1000～100000），使它具有很大的內(nèi)表面，比表面積為500～1700米2／克。這決定了活性炭具有良好的吸附性，可以吸附廢水和廢氣中的金屬離子、有害氣體、有機污染物、色素等。工業(yè)上應(yīng)用活性炭還要求機械強度大、耐磨性能好，風(fēng)阻小。它的結(jié)構(gòu)力求穩(wěn)定，吸附所需能量小，以有利于再生?；钚蕴坑糜谟椭?、飲料、食品、飲用水的脫色、脫味，氣體分離、溶劑回收和空氣調(diào)節(jié)，用作催化劑載體和防毒面具的吸附劑。隨著時間的延長，活性炭細孔中吸附質(zhì)濃度的不斷增大，吸附速度會不斷減慢，直到活性炭達到飽和狀態(tài)。此時，吸附速度和解吸速度達到動態(tài)平衡，氣、固相之間的傳遞相等?；钚蕴吭谶@時需要進行解吸脫附再生。
