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鄭州市芳泉凈水設(shè)備有限公司
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電泳涂裝線有很多水洗工藝。主要有電泳前磷化后的清洗和電泳后的工件清洗。磷化后的水洗主要是為了清洗干凈工件表面、內(nèi)腔所帶有的磷化液、磷化渣、金屬離子及其它雜質(zhì)離等,同時(shí)保證工件清洗后的滴水電導(dǎo)率滿足電泳槽對入槽工件的要求,防止對電泳槽液帶來污染。工件清洗的效果直接影響到電泳涂裝的質(zhì)量和電泳槽液的穩(wěn)定性。磷化后的水洗一般有自來水噴淋清洗、自來水浸漬清洗、純水浸漬清洗、純水噴淋洗、干凈純水噴淋清洗等各道工序。磷化水洗電導(dǎo)率一般要求在15μS/cm2。
電泳后的水洗:超濾水洗后,工件還需要純水清洗,一般有純水浸洗,再加上一道干凈純水噴淋清洗工序,也是采用逆向流動(dòng)重復(fù)利用水,即干凈純水清洗工件后,返回到純水洗槽,然后通過純水槽溢流排出。電泳后的純水洗電導(dǎo)率一般要求15μS/cm2。
電泳涂裝行業(yè)大型系統(tǒng)一般采用反滲透系統(tǒng),小型系統(tǒng)可采用離子交換系統(tǒng),一般用于飾品如表帶、鏡架、手機(jī)殼上的面彩色電泳對純水純度更高,需要在后面增加混床或EDI裝置以使產(chǎn)水電導(dǎo)率達(dá)到1uS/cm2。
離子交換與反滲透技術(shù)的比較:
離子交換與反滲透相比具有投資成本低的優(yōu)勢
離子交換設(shè)備占地一般反滲透設(shè)備要小
在原水水質(zhì)低于200uS/CM時(shí)其運(yùn)行成本也低于反滲透系統(tǒng)
原水電導(dǎo)率高于500uS/CM時(shí)其運(yùn)行成本會(huì)比較高
離子交換器交換飽合后需要用酸、堿進(jìn)行再生
反滲透不需酸堿再生,無環(huán)保問題
反滲透產(chǎn)水穩(wěn)定性比較好
反滲透操作簡單
反滲透在適合高鹽份(電導(dǎo)率)的水源
用于涂裝行業(yè)的離子交換設(shè)備:
離子交換是通過置換反應(yīng)交換水中的陰(CaCO32-SO42-,HCO3-等)陽(Ca2+, Mg2+,F(xiàn)e2+等)離子,同時(shí)釋放H+和OH-產(chǎn)生純水。這種工藝可實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化操作,需要酸堿再生, 在原水低鹽份(表現(xiàn)出現(xiàn)電導(dǎo)低于200左右)運(yùn)行成本和投資成本雙低,但原水電導(dǎo)率達(dá)到500uS/CM2,運(yùn)行成本就比較高了。
工藝流程如下:水源水→原水增壓泵→精密過濾器→陽樹脂交換床→陰樹脂交換床→用水點(diǎn)
反滲透純水系統(tǒng)在電泳涂裝工藝上的應(yīng)用:
反滲透是用足夠的壓力使溶液中的溶劑(一般常指水)通過反滲透膜(一種半透膜)而分離出來與滲透方向相反,可使用大于滲透壓的反滲透法進(jìn)行分離、提純和濃縮溶液。反滲透膜的主要分離對象是溶液中的離子范圍。
反滲透法分離過程有如下優(yōu)點(diǎn):
?、俨恍杓訜帷]有相變;
?、谀芎纳?
③設(shè)備體積小、操作簡單,適應(yīng)性強(qiáng);
?、軐Νh(huán)境不產(chǎn)生污染。
反滲透純水系統(tǒng)根據(jù)不同的源水水質(zhì)采用不同的工藝。一般自來水經(jīng)一級反滲透系統(tǒng)處理后,產(chǎn)水電導(dǎo)率<10μS/cm,經(jīng)二級反滲透系統(tǒng)后產(chǎn)水電導(dǎo)率 <5μS/cm甚至更低,在反滲透系統(tǒng)后輔以離子交換設(shè)備或EDI設(shè)備可以制備超純水,使電阻率達(dá)到18兆歐姆25℃(約0.056μS/cm)。
反滲透純水系統(tǒng)的核心部分是反滲透膜也是決定產(chǎn)水水質(zhì)的關(guān)鍵,但反滲透系統(tǒng)前處理工藝的優(yōu)劣(又稱預(yù)處理系統(tǒng))是決定反滲透系統(tǒng)穩(wěn)定運(yùn)行的關(guān)鍵。
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